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當前位置:首頁 > 產品中心 > > 光學元件 > Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1

Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1

簡要描述:Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1
BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應用而設計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-24
  • 訪  問  量:1205

詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1


Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1

分離特定波長的s偏振和p偏振分量。由于其高損傷閾值,薄膜偏振片在高能激光器的應用中取代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

產品介紹

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應用而設計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2,因此在高能激光器的應用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長及其諧波,也可以用作腔內Q開關釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標準-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產品型號

代碼

波長

材料

偏振效率

消光比

尺寸

 

420-1110E

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1240E

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1270

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1370

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1510E

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1242HE

343 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1242HT

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1112E

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1242E

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1512E

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1272

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1372

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1122E

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1252HE

355 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1252HT

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1252E

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1282

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1382

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1502E

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1123E

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1253E

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1283

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1383

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1503E

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0114E

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1114E

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1244HE

515 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1244HT

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0244E

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1244E

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0274

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1274

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1374

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-0514E

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1514E

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0124E

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1124E

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1484HE

532 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

20 x 15 x 6 mm

 

420-1254HE

532 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1254UHT

532 nm

UV FS

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1254HT

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0254E

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1254E

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0284

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1284

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1584HE

532 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

30 x 20 x 6 mm

 

420-1384

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-0504E

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1504E

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0125E

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-0255E

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0285

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-0505E

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0127E

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-0257E

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0287

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-0507E

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0136E

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1136E

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-0266E

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1266E

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0296

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1296

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1396

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-0526E

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1526E

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0126E

800 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1126E

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

 

材料

BK7, UV FS

表面質量

20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

透射波前畸變

λ/10 @ 633 nm

平行性

< 30 arcsec

通光孔徑

> 90%

入射角

56°±2°

直徑公差

+0.0 -0.12 mm

厚度公差

±0.2 mm

激光損傷閾值

10 J/cm2, 10 nsec pulse at 1064 nm typical, 50 Hz

消光比Tp / Ts

>200:1 (for standard, HT and UHT series)

>1000:1 (for HE series)

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應用而設計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2,因此在高能激光器的應用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長及其諧波,也可以用作腔內Q開關釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標準-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應用而設計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2,因此在高能激光器的應用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長及其諧波,也可以用作腔內Q開關釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標準-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

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